Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок — Данилин Б.С.

Показана роль тонкопленочной технологии в производстве интегральных схем. Анализируются основные факторы, определяющие процесс ионного распыления. Рассматривается осаждение пленок магнетронным, термоионным, ионно-кластерным и электронно-циклотронным методами, а также стимулированное плазмой осаждение пленок из газовой фазы при пониженном давлении. Показаны пути обеспечения вакуумно-технических параметров в установках для осаждения тонких пленок. Рассмотрены перспективы применения плазменных процессов в производстве интегральных схем. Для научных и инженерно-технических работников, использующих в своей практической работе осаждение пленок с помощью низкотемпературной плазмы. Может быть полезна также студентам старших курсов, аспирантам и преподавателям вузов.

Название: Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок
Автор: Данилин Б.С.
Издательство: Энергоатомиздат
Формат: DjVu
Год: 1989
Язык: русский
Cтраниц: 327
Размер: 5 МБ